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  • GSL-1800X-ZF2 蒸發(fā)鍍膜儀
    GSL-1800X-ZF2 蒸發(fā)鍍膜儀

    GSL-1800X-ZF2 蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)

    更新時間:2023-11-06型號:瀏覽量:1222
  • GSL-1800X-ZF4 蒸發(fā)鍍膜儀
    GSL-1800X-ZF4 蒸發(fā)鍍膜儀

    GSL-1800X-ZF4 蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀,特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜(如Ti、Al、Au等),也可蒸鍍各種氧化物材料。本機(jī)設(shè)有4個蒸鍍加熱舟,且每個蒸鍍舟都帶有擋板。若更改部分配置也可實(shí)現(xiàn)對有機(jī)材料的蒸發(fā)鍍膜,可滿足發(fā)光器件及有機(jī)太陽能電池方面的研究要求,是一款鍍膜效果理想且性價(jià)較高的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。

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  • OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐
    OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

    OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。管式爐爐管直徑為11“ OD,爐管內(nèi)載樣盤可放置3“ 的圓形或2“x2“的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體的頂端和底部,其升溫速率高達(dá)20ºC/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制,控溫精度為+/-1ºC。儀器面板上帶有RS485接口,儀表內(nèi)配有控溫軟件,可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。

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  • 鈣鈦礦鍍膜機(jī)
    鈣鈦礦鍍膜機(jī)

    鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

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  • OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐
    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設(shè)備專門設(shè)計(jì)針對于熱蒸發(fā)或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實(shí)驗(yàn),其鍍膜面積可達(dá)到5“x5“,并且頂部載樣臺可旋轉(zhuǎn),提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),大升溫速率為10ºC/s 。對于探索新一代的薄膜太陽能電池,

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